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프로세스 챔버

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기관명	NDSL
출원인	어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호	10-2018-7000161
출원일자	2018-01-03
공개번호	20180118
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 명세서에 설명된 실시예들은 일반적으로 프로세스 챔버를 플라즈마 트리트먼트하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.게이트 스택이 그 위에 형성된 기판은 프로세스 챔버 내에 배치될 수 있고, 수소 함유 플라즈마는 게이트 스택 내의 결함들을 치유하도록 게이트 스택을 트리트먼트하기 위해 이용될 수 있다.수소 함유 플라즈마 트리트먼트의 결과로서, 게이트 스택은 더 낮은 누설 및 개선된 신뢰가능성을 갖는다.수소 함유 플라즈마에 의해 발생되는 H x + 이온들 및 H * 라디칼들로부터 프로세스 챔버를 보호하기 위해, 프로세스 챔버는 수소 함유 플라즈마 트리트먼트 전에, 내부에 기판을 배치하지 않고서, 플라즈마로 트리트먼트될 수 있다.추가로, 유전체 재료로 이루어진 프로세스 챔버의 컴포넌트들은 플라즈마로부터 컴포넌트들을 보호하기 위해 이트륨 함유 산화물을 포함하는 세라믹 코팅으로 코팅될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020187000161
첨부파일

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