| 초록 |
진공 챔버(30); 진공 챔버에 있는 제 1 전극(2); 제 1 전극(2)과 대향하며 제 1 전극(2)으로부터 이격된 진공 챔버에 있는 제 2 전극(2); 진공 챔버에 반응성 처리 기체를 제공하기 위한 수단(99); 제 1 및 제 2 전극(8)의 하나에 주요 RF 전압을 인가하기 위해, 제 1 또는 제 2 전극의 하나에 전기적으로 연결된 전원, 다른 전극은 접지된다; 도전성 재료를 포함하며, 제 2 전극(8)과 전기 접촉되며 기판(11)을 고정하여 기판의 상부 및 하부 표면의 적어도 대부분은 플라즈마 반응기의 임의의 부분과 접촉하지 않고 플라즈마에 노출될 수 있는 기판 캐리어(13)를 포함하는 플라즈마 반응기 용기로서; 반응기 용기(100)는 기판 캐리어(13)와 제 2 전극(8) 사이에 포함된 제 3 전극(16)을 더 포함하며, 제 3 전극(16)은 상기 제 2 전극(8)과 전기절연되는 것을 특징으로 하며; 제 3 전극(16)과 기판 캐리어(13)는 기판 캐리어(13)가 기판(11)을 고정할 때, 제 1 여유 간격(12)이 기판(11)과 제 3 전극(16) 사이에 포함되도록 배열된다. 플라즈마 처리를 실행하기 위한 상응하는 어셈블리 및 방법이 추가로 제공된다. |
