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EUV 광원 내에서 타겟 재료의 액적을 제어하기 위한 시스템 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
출원번호	10-2016-7010163
출원일자	2016-04-19
공개번호	20160603
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	레이저 생성 플라즈마 (LPP) 극자외선(EUV) 광 시스템 내에서, 단일 레이저 소스로부터 이중 레이저 커튼을 생성하고 이용함으로써 액적 방출 및/또는 조사를 제어하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 하나 이상의 센서를 포함하는 제1 세트의 센서는, 타겟 재료의 액적이 하나 이상의 커튼을 관통함에 따라 액적을 검출함으로써, 다음 액적을 조사 위치까지 보다 정확하게 유도하기 위하여 액적 생성기가 배향을 조절하도록 한다. 하나 이상의 센서를 포함하는 제2 세트의 센서는, 액적이 하나 이상의 커튼을 관통함에 따라 액적을 검출함으로써, 펄스가 액적과 동일한 시간에 조사 위치에 도달하도록 소스 레이저가 상기 펄스를 발생시켜야 하는 시기를 결정하도록 한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167010163
첨부파일

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