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EUV 리소그래피용 반사 광학 소자 및 광학계

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기관명	NDSL
출원인	칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
출원번호	10-2013-7033157
출원일자	2013-12-13
공개번호	20140417
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	특히 EUV 리소그래피 장치 내부에서 반사 광학 소자의 수명에 대한 반응성 수소의 부정적 영향을 감소시키기 위해, 다층 시스템(51)을 갖는 반사면을 갖는 반사 광학 소자(50)가 극자외선 및 소프트 X선 파장 영역에 제공되고, 이 경우에 반사면(60)은 탄화규소 또는 루테늄으로 구성된 최상층(56)을 갖는 보호층 시스템(59)을 가지며, 상기 보호층 시스템(59)은 5nm 내지 25nm의 두께를 갖는다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020137033157
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