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특허/실용신안

백금 촉매의 연속 도포 장치 및 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 ,
출원번호 10-2014-0048226
출원일자 2014-04-22
공개번호 20151105
공개일자 2016-04-05
등록번호 10-1608353-0000
등록일자 2016-03-28
권리구분 KPTN
초록 본 발명에 따른 백금 촉매 연속 도포 장치는 공정 챔버; 백금 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생기; 상기 플라즈마 발생기에서 발생한 상기 백금 플라즈마에 전기장을 제공하여 백금 이온을 분리 및 가속시키는 가속기; 상기 백금 이온이 주입되는 이온 교환막 또는 가스 확산층이 회전 가능하도록 지지되는 타겟롤; 및 상기 플라즈마 발생기 및 상기 타겟롤 사이에 배치되어, 상기 가속기에 의해 가속된 상기 백금 이온을 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층으로 주입되도록 가이드하는 가이드 부를 제공한다. 본 발명에 따르면 백금 플라즈마에서 발생한 백금 이온이 연속적으로 공급되는 이온 교환막 또는 가스 확상층 표면 상에 주입될 수 있어서 대량생산이 가능한 효과가 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140048226
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01M-004/88,H01M-004/92,H01M-008/02
주제어 (키워드)