| 초록 |
아크 챔버 내의 온도를 적절하게 제어하여 목적하는 필라멘트 성장 또는 대안적 필라멘트 에칭을 수행함에 의해, 아크 챔버의 이온 공급원 내에서 필라멘트의 성장/에칭을 가능케 하는 반응성 세정 시약을 사용하여 이온 주입 시스템 또는 그의 컴포넌트를 세정하는 것이 기재되어 있다.또한, 주위 온도, 승온 또는 플라즈마 조건 하에 이온 주입기 또는 주입기의 컴포넌트 영역들을 장비내 또는 장비외 세정 설비에서 세정하기 위한, XeF x , WF x , AsF x , PF x 및 TaF x (여기서, x는 화학양론적으로 적절한 값 또는 적절한 범위의 값을 가짐)와 같은 반응성 기체의 용도가 기재되어 있다.특정 반응성 세정제들 중, BrF 3 가 장비내 또는 장비외 세정 설비에서 이온 주입 시스템 또는 그의 컴포넌트의 세정에 유용한 것으로 기재되어 있다.또한, 이온화-관련 침착물의 적어도 일부를 이온 주입 시스템의 포어라인으로부터 제거하기 위해 이온 주입 시스템의 포어라인을 세정하는 방법이 기재되어 있으며, 이는 상기 포어라인을, 상기 침착물과 화학적으로 반응성인 세정 기체와 접촉시키는 단계를 포함한다.또한, 캐쏘드를 기체 혼합물과 접촉시키는 것을 포함하는, 이온 주입 시스템의 성능 개선 및 수명 연장 방법이 기재되어 있다. |
