EUV 투영 리소그래피용 조명 시스템
기관명 | NDSL |
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출원인 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 |
출원번호 | 10-2016-7016530 |
출원일자 | 2016-06-21 |
공개번호 | 20160728 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | EUV 투영 리소그래피를 위한 조명시스템은 싱크로트론 방사선 기반 광원(2)의 EUV 로 빔(4)으로부터 EUV 집광 출력 빔(7)을 생성하기 위한 빔 성형 광학 유닛(6)을 갖는다.출력 결합 광학 유닛(8)은 EUV 집광 출력 빔(7)으로부터 복수의 EUV 개별 출력 빔(9 i )을 생성하는 역할을 한다.각각의 경우에, 빔 안내 광학 유닛 (10)은 리소그래피 마스크(12)가 배치될 수 있는 오브젝트 필드(11)를 향하여 각각의 EUV 개별 출력 빔(9 i )을 가이드하기 위한 역할을 한다.이 결과는 싱크로트론 방사선 기반 광원의 EUV 광이 손실없이 동시에 유연하게 가능한 가장 최대치로 가이드되는 조명 시스템이다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167016530 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | |
주제어 (키워드) |