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플라즈마 화학기상 장치

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기관명	NDSL
출원인	(주)에스엔텍
출원번호	10-2014-0016462
출원일자	2014-02-13
공개번호	20150827
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 기재의 적어도 일 면에 대해 플라즈마 화학기상 처리 공정을 수행하는 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공챔버; 상기 진공챔버 내부에서 상기 기재를 적재하는 적재부; 상기 기재의 적어도 일면 측에 배치되는 적어도 하나의 중공체 전극; 상기 전극 내부에서 상기 처리 공정 중 상기 전극의 축선을 중심으로 미리 설정된 각도 범위를 연속적으로 왕복 회동하는 적어도 하나의 자기장발생부재; 상기 전극으로 전원을 공급하는 전원공급부; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 진공챔버 내부에 공정가스를 공급하는 가스공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 기재의 전면적에 걸쳐 균일한 고품질의 플라즈마 화학기상 처리 공정을 고속으로 수행할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140016462
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