주입 시스템에서 이온 빔 품질을 개선하는 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. |
출원번호 | 10-2016-7003947 |
출원일자 | 2016-02-16 |
공개번호 | 20160404 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 이온 주입기에서 이온 빔 품질을 개선하기 위한 방법이 개시된다. 일부 이온 주입 시스템들에 있어, 이온 소스로부터의 오염물질들이 희망되는 이온들과 함께 추출되며, 이는 작업물에 오염물질들을 도입한다. 이러한 오염물질들은 이온 소스 챔버 내의 불순물들일 수 있다. 이러한 문제는 추출된 이온 빔의 질량 분석이 수행되지 않을 때 악화되며, 희망되는 공급가스가 할로겐을 포함할 때 더 악화된다. 이온 챔버 내의 희석 가스의 도입이 챔버의 내부 표면들에 대한 할로겐의 유해한 영향을 감소시킬 수 있으며, 이는 추출되는 이온 빔의 오염물질들을 감소시킨다. 일부 실시예들에 있어, 희석 가스는 게르만 또는 실란일 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167003947 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01J-037/08,H01J-037/317,H01J-037/32,H01L-021/265 |
주제어 (키워드) |