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특허/실용신안

멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
출원번호 10-2015-0168737
출원일자 2015-11-30
공개번호 20160609
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 일 태양의 멀티 하전 입자빔 묘화 장치는, 제한 애퍼처 부재를 통과한 빔 ON이 되는 각 빔을 트래킹 제어에 의해 스테이지의 이동에 추종하도록 일괄하여 편향하는 편향기와, 트래킹 제어에 의한 트래킹량에 의존한 멀티빔의 각 빔의 조사 위치의 이탈량을 취득하는 취득부와, 빔마다 또한 조사 위치마다, 트래킹량에 의존한 조사 위치의 이탈량을 보정하는 보정 계수를 연산하는 보정 계수 연산부와, 트래킹 동작마다, 보정 계수를 이용하여 트래킹량에 의존한 멀티빔의 각 빔의 조사 위치의 이탈량이 보정되는 샷 데이터를 생성하는 샷 데이터 생성부와, 샷 데이터를 이용하여 복수의 블랭커를 제어하는 편향 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150168737
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-001/20,G03F-007/20,H01L-021/027
주제어 (키워드)