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배기유체 처리용 저압 플라즈마 반응장치

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기관명	NDSL
출원인	,,
출원번호	10-2015-0026270
출원일자	2015-02-25
공개번호	20151015
공개일자	2015-10-13
등록번호	10-1557880-0000
등록일자	2015-09-30
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 공정 챔버의 배기유체가 불소계 또는 염소계 가스를 포함할 경우에도 이를 처리하는 저압 플라즈마 반응장치에서 이온충돌에 의한 유전체 내부 표면 식각을 최소화하여 지속적인 배기유체 처리가 가능하고, 이중 챔버 구조를 갖추어 안전한 처리가 가능하도록 자기장 발생부 및 하우징을 구비한 장치에 관한 것이다. 이를 위해 플라즈마 이온에 의한 유전체 표면 식각 저감을 유도하는 자기장 값을 최적화하여 적용하였고, 하우징은 유전체 튜브와 그 외면을 고리모양으로 감싸는 구동전극 및 자기장 발생부를 물리적으로 밀봉할 뿐 아니라 전자기 차폐가 가능한 저압 플라즈마 반응장치를 제공한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020150026270
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