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방사선 조사를 이용한 폴리도파민 코팅 고분자 기질 및 이의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	한국원자력연구원
출원번호	10-2014-0085984
출원일자	2014-07-09
공개번호	20160121
공개일자	2016-03-16
등록번호	10-1603602-0000
등록일자	2016-03-09
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 카르복시기로 매개되는 폴리도파민 코팅 고분자 기질 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리도파민 코팅 고분자 기질은 그 코팅의 균질도 향상으로 인해, 강화된 세포 부착 활성, 세포 퍼짐 정도를 가지고, 또한 카르복시기 매개에 의한 패턴 형성도 용이하여 세포지지체등 조직 공학의 다양한 용도로 이용이 가능하다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140085984
첨부파일

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