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특허/실용신안

반도체 공정용 플라즈마 장치에 사용되는 외부 전극 및 상부 전극 어셈블리

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 하나머티리얼즈(주)
출원번호 10-2014-0143627
출원일자 2014-10-22
공개번호 20160510
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 반도체 플라즈마 공정용 반응 챔버에 사용되는 상부 전극 어셈블리 및 이에 포함되는 외부 전극에 관한 것으로, 상부 전극에 포함되는 내부 전극이 클램프 링에 실리콘 외부전극 및 백킹 플레이트에 고정되지 않고, 내부 전극의 외주부에 하나의 단차가 형성되어, 외부 전극과 밀착되어 기계적, 물리적으로 결합되고, 상기 단차의 위쪽 방향으로 내부 전극의 상부면 외주부를 따라 돌출부가 형성되어 백킹 플레이트와 결합 및 고정될 수 있는, 돌출부 일체형으로 형성된 내부 전극 구조와 외부 전극의 개선된 구조를 제공한다. 본 발명에서 제시하는 일체형 내부 전극과 개선된 구조를 갖는 상부 전극 어셈블리는, 기존의 내부 전극이 알루미늄 클램프 등에 의해 기계적으로 고정되는 것에 비해, 내부 전극의 측면 외주부에 형성된 하나의 단차에 의해 외부 전극과 결합되고, 상기 단차의 상부면에 형성된 돌출부에 의해 (클램프링을 사용하지 않고) 백킹 플레이트에 기계적으로 밀착되어 고정되는 구조와 개선된 외부 전극의 외주부 구조를 포함함으로써, 플라즈마 장치의 사용 과정 중이나 상부 전극의 교체 과정 중에 발생할 수 있는 파손을 방지할 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140143627
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H05H-001/34,H05H-001/46
주제어 (키워드)