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특허/실용신안

리튬 하이드록사이드 제조 공정 및 시스템

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 네마스카 리튬 인코포레이션
출원번호 10-2016-7013648
출원일자 2016-05-23
공개번호 20160630
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 리튬 하이드록사이드를 제조하는 공정들을 제공한다. 상기 공정들은 리튬 설페이트 및/또는 리튬 바이설페이트의 리튬 하이드록사이드로의 전환을 위한 적합한 조건 하에서, 리튬 설페이트 및/또는 리튬 바이설페이트를 포함하는 수성 조성물을 2-구획 막 공정을 포함하는 제1 전기막 공정으로 보내고, 제1 리튬-부족 수성 스트림 및 제1 리튬 하이드록사이드-풍부 스트림을 얻는 단계; 및 리튬 하이드록사이드의 적어도 추가적인 부분을 제조하기 위한 적합한 조건 하에서, 상기 제1 리튬-부족 수성 스트림을 3-구획 막 공정을 포함하는 제2 전기막 공정으로 보내고, 제2 리튬-부족 수성 스트림 및 제2 리튬 하이드록사이드-풍부 스트림을 얻는 단계를 포함한다. 또한, 본 발명은 리튬 하이드록사이드 제조를 위한 시스템을 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167013648
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C25B-001/16,B01D-061/42,C25B-009/00
주제어 (키워드)