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특허/실용신안

에피택셜 리프트오프와 스폴링의 조합을 통한 박막 리프트오프

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시간
출원번호 10-2016-7007824
출원일자 2016-03-24
공개번호 20160510
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 개시내용은 일반적으로, 전자 및 광전자 디바이스와 같은 디바이스, 예컨대 광기전 디바이스의 제조에서 이용하는 박막 리프트오프 공정에 관한 것이다. 본원에 기술된 방법은 에피택셜 리프트오프와 스폴링 기술의 조합을 이용하여, 성장 기판으로부터의 에피층의 분리를 신속 정확하게 제어한다. 본원은 성장 기판과 희생층 사이에 배치된 희생층을 갖는 성장 구조체를 제공한다. 본 개시내용의 예시적인 방법은, 희생층 내에 1 이상의 노치를 형성하는 단계, 및 1 이상의 노치에서 균열 전파에 의해 성장 구조체를 스폴링하여 성장 기판으로부터 에피층을 분리하는 단계를 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167007824
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-031/18,H01L-021/18,H01L-021/306,H01L-021/78
주제어 (키워드)