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특허/실용신안

듀얼 패스 스캐닝

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
출원번호 10-2016-7017461
출원일자 2016-06-29
공개번호 20160714
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 복수의 하전 입자 빔렛들을 사용하여 웨이퍼를 노출하기 위한 방법. 방법은 빔렛들 사이에서 비-기능 빔렛들을 식별하는 단계, 웨이퍼의 제 1 부분을 노출하기 위해 빔렛들의 제 1 서브세트를 할당하는 단계 - 제 1 서브세트는 식별된 비-기능 빔렛들을 제외함-, 빔렛들의 제 1 서브세트를 사용하는 웨이퍼의 제 1 부분을 노출하기 위한 제 1 스캔을 수행하는 단계, 웨이퍼의 제 2 부분을 노출하기 위한 빔렛들의 제 2 서브세트를 할당하는 단계 - 제 2 서브세트는 또한 식별된 비-기능 빔렛들을 제외함-, 및 빔렛들의 제 2 서브세트를 사용하여 웨이퍼의 제 2 부분을 노출하기 위한 제 2 스캔을 수행하는 단계를 포함하고, 웨이퍼의 제 1 및 제 2 부분들은 겹치지 않고, 함께 노출될 웨이퍼의 완전한 영역을 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167017461
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01J-037/317,H01L-021/027,B82Y-010/00,B82Y-040/00
주제어 (키워드)