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특허/실용신안

반도체 장치 및 그 제작 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
출원번호 10-2016-0048552
출원일자 2016-04-21
공개번호 20160519
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 전기 특성 및 신뢰성이 높은 박막 트랜지스터를 갖는 반도체 장치, 및 상기 반도체 장치를 높은 양산성으로 제작하는 방법을 제안하는 것을 과제로 한다. 반도체층으로서 In, Ga, 및 Zn를 포함하는 산화물 반도체막을 사용하고, 반도체층과 소스 전극층 및 드레인 전극층 사이에 금속 산화물층으로 이루어지는 버퍼층이 형성된 역 스태거형(보텀 게이트 구조)의 박막 트랜지스터를 포함하는 것을 요지로 한다.소스 전극층 및 드레인 전극층과 반도체층 사이에 버퍼층으로서 금속 산화물층을 의도적으로 형성함으로써, 오믹(ohmic)성의 콘택트를 형성한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160048552
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-029/786,H01L-027/12,H01L-029/49,H01L-029/51,H01L-029/66
주제어 (키워드)