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특허/실용신안

물리기상증착법으로 제조된 P형 실리콘 박막에 전자빔 조사를 통한 대면적 결정화 공정을 포함하는 태양전지의 제조방법 및 이에 따른 태양전지

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국생산기술연구원
출원번호 10-2012-0119310
출원일자 2012-10-25
공개번호 20140227
공개일자 2014-02-26
등록번호 10-1366745-0000
등록일자 2014-02-18
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 높은 결정화 분율, 큰 결정립 크기를 가지고 가능한 짧은 시간 안에 대면적 다결정 실리콘 박막을 제조하는 물리기상증착법으로 제조된 P형 실리콘 박막에 전자빔 조사를 통한 대면적 결정화 공정을 포함하는 태양전지의 제조방법 및 이에 따른 태양전지에 관한 것이다. 본 발명에 따른 물리기상증착법으로 제조된 P형 실리콘 박막에 전자빔 조사를 통한 대면적 결정화 공정을 포함하는 태양전지의 제조방법은 기판을 준비하는 기판 준비 단계; 상기 기판 위에 물리 기상 증착법으로 제1 비정질 실리콘층을 증착하는 제1 비정질 실리콘층 증착 단계; 상기 제1 비정질 실리콘층에 전자 빔을 조사하여 결정화시켜 제1 다결정 실리콘층을 형성하는 제1 다결정 실리콘층 형성 단계; 상기 제1 다결정 실리콘층 위에 물리 기상 증착법으로 제2 비정질 실리콘층을 증착하는 제2 비정질 실리콘층 증착 단계; 및 상기 제2 비정질 실리콘층에 전자 빔을 조사하여 결정화시켜 제2 다결정 실리콘층을 형성하는 제2 다결정 실리콘층 형성 단계를 포함하되, 상기 전자 빔은 상기 제1 및 제2 비정질 실리콘층 위에서 일정 구간 왕복운동하는 리니어 스캔 방식으로 조사하여 이루어진다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020120119310
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-031/042,H01L-031/18,C23C-014/46
주제어 (키워드)