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노광용 마스크의 제조 방법, 노광용 마스크의 제조 시스템 및 반도체 장치의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
출원번호	10-2015-0006537
출원일자	2015-01-14
공개번호	20150730
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명의 일태양의 노광용 마스크의 제조 방법은, 복수의 극단 자외(EUV: Extreme Ultra Violet) 노광용 마스크 블랭크에 각각 발생되어 있는 적어도 1 개 이상의 결함의 위치를 나타내는, EUV 노광용 마스크 블랭크마다의 결함 위치 데이터를 계측하여, 기록하고, 묘화 대상이 되는 도형 패턴이 정의된 패턴 데이터를 입력하고, 패턴 데이터에 정의되는 도형 패턴의 배치 위치를 기초로, 복수의 EUV 노광용 마스크 블랭크 중에서, 상기 EUV 노광용 마스크 블랭크마다의 결함 위치 데이터를 이용하여, 도형 패턴을 묘화하는 경우에 차광 영역에 배치되지 않은 결함 수가 임계치 이하가 되도록 도형 패턴을 배치 가능한 EUV 노광용 마스크 블랭크를 탐색하고, 하전 입자빔을 이용하여, 탐색된 EUV 노광용 마스크 블랭크에, 상기 차광 영역에 배치되지 않은 결함 수가 상기 임계치 이하가 되도록 상기 도형 패턴을 묘화하는 것을 특징으로 한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150006537
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