선택적 퇴적 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
출원번호 | 10-2016-0013126 |
출원일자 | 2016-02-02 |
공개번호 | 20160818 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 기판의 표면을 상이한 제 2 표면에 대하여 선택적으로 퇴적시키기 위한 방법들이 제공된다.예시적인 퇴적 방법은 니켈, 니켈 질화물, 코발트, 철, 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 물질과 같은 물질을, H-종결된 표면과 같은 상이한 제 2 표면에 대하여 동일한 기판의 SiO 2 표면과 같은 제 1 표면 위에 선택적으로 퇴적시키는 단계를 포함할 수 있다. 방법들은 퇴적에 앞서 H-종결들을 제공하기 위해 기판의 표면을 처리하는 단계를 포함할 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160013126 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | |
주제어 (키워드) |