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특허/실용신안

X-RAY GENERATING APPARATUS, METHOD OF ADJUSTING TARGET, AND METHOD OF USING X-RAY GENERATING APPARATUS

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 CANON ANELVA CORPORATION
출원번호 18350953
출원일자 2023-07-12
공개번호 20231102
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 USAP
초록 An X-ray generating apparatus includes an electron gun, a target configured to generate X-rays by being irradiated with an electron beam emitted from the electron gun, and a controller configured to control a first mode for thinning the target by irradiating the target with an electron beam with a current adjusted within a first current range and a second mode for generating X-rays by irradiating the target with an electron beam with a current adjusted within a second current range. The first current range has a lower limit larger than an upper limit of the second current range.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=USAP&cn=USA2023110352260
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01J-035/08(2006.01),H01J-035/14(2006.01)
주제어 (키워드)