| 초록 |
본 발명에 따른 미분 위상 대조 X선 이미징을 수행하는 방법은 이미지화될 물체를 비추기 위한 X선 빔을 제공하는 단계; 빔 스플리터 상에 입사될(to be incident) X선 빔을 발사하는 단계 - 상기 빔 스플리터는, 상기 X선 빔을 인터셉트하고 X선으로부터의 간섭 패턴을 제공하기 위해 배치된 스플리터 격자를 포함함 -; 상기 빔 스플리터로부터 X선의 상기 간섭 패턴을 인터셉트하기 위해 상기 이미지화될 물체를 배치하는 단계; 및 상기 이미지화될 물체를 통해서 통과한 후의 X선의 상기 간섭 패턴의 적어도 일부를 검출하는 단계를 포함한다. 상기 검출하는 단계는 분석기 격자를 사용하여 상기 물체를 통해서 통과한 후의 X선의 상기 간섭 패턴의 적어도 일부를 차단하는 단계를 포함하고, 상기 분석기 격자는 종 차원, 상기 종 차원에 수직인 횡 차원, 그리고 상기 종 및 횡 차원들에 수직인 높이 차원을 가지고, 상기 분석기 격자는 광학적 고밀도 영역들의 패턴을 포함하고, 상기 광학적 고밀도 영역들은 상기 종 차원을 따라 최장 크기를 각각 가지고 인접한 광학적 고밀도 영역들 사이에 광학적 소밀도 영역들이 존재하도록 상기 횡 차원에서 서로 실질적으로 평행하게 간격을 두고 위치하고, 각각의 광학적 고밀도 영역은 상기 종 차원의 길이보다 작은 상기 높이 차원의 깊이를 가지고, 상기 분석기 격자는 입사 X선에 대한 셸로우 앵글로 상기 종 차원으로 배치되고, 그리고 상기 셸로우 앵글은 30도보다 작다. |
