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특허/실용신안

감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 그 조성물을 이용한 레지스트막 및 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법 및 전자 디바이스

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 후지필름 가부시키가이샤
출원번호 10-2015-7015509
출원일자 2015-06-11
공개번호 20150717
공개일자 2016-07-01
등록번호 10-1635494-0000
등록일자 2016-06-27
권리구분 KPTN
초록 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은, 트라이페닐설포늄노나플레이트를 기준으로 한 경우의, 상대 흡광도를 ε r 로 하고, 상대 양자효율을 φ r 로 할 때, 상대 흡광도 ε r 이 0.4~0.8이면서, 또한, ε r ×φ r 이 0.5~1.0인 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 산을 발생하는 화합물(A)을 함유한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020157015509
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-007/004,C07C-309/06,C07C-309/12,C07C-309/17,C07C-381/12,C07D-217/08,C07D-279/12,C07D-327/06,C07
주제어 (키워드)