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특허/실용신안

금속 실리사이드, 금속 저머나이드, 이들의 제조 방법 및 니켈 박막 퇴적

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 에이에스엠 인터내셔널 엔.브이.
출원번호 10-2018-0119619
출원일자 2018-10-08
공개번호 20181026
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 일 태양에서, 실리사이드화 및 저머나이드화 방법들이 제공된다. 일부 실시예들에 있어서, 금속 실리사이드의 형성 방법은 기판의 노출된 실리콘 영역 위에 저머늄 또는 고체 안티몬과 같은 비-산화물 계면을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 계면층 위에 금속 산화물이 형성된다. 어닐링과 환원은 금속 산화물의 금속이 하부의 실리콘과 반응하여 금속 실리사이드를 형성하게 한다. 또한, 하부의 실리콘이 실리사이드화되든 그렇지 않든 저머늄 위의 금속 산화물의 환원을 환원시킴으로써 금속 저머나이드가 형성될 수 있다. 다른 실시예들에서, 계면층이 사용되지 안고 니켈이 직접 퇴적된다.다른 태양에서, 기상 증착 공정에 의하여 니켈 박막을 증착시키는 방법이 제공된다. 일부 실시예들에 있어서, 니켈 박막은 ALD에 의하여 퇴적된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020180119619
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-029/66,H01L-021/28,H01L-021/285,H01L-029/49
주제어 (키워드)