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특허/실용신안

고점도 순키토산 방사액의 복합 거품 제거 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 히스머 바이오-테크놀로지 컴퍼니, 리미티드
출원번호 10-2016-7008786
출원일자 2016-04-01
공개번호 20160512
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 고점도 순키토산 방사액의 복합 거품 제거 방법에 관한 것이며, 아래와 같은 단계를 포함한다. 1. 방사액은 용해베슬을 통과하면서 충분히 용해되고 그 점도는 450000mpaㆍs ~ 500000mpaㆍs에 도달하여 사용대기한다. 2. 단계 1에서 사용대기하는 방사액을 용해베슬에서 압축공기를 동력으로 여과하여 거품 제거 베슬(1)의 투입구(3)에 수송한다. 3. 거품 제거 베슬(1)에서 거품 제거 베슬(1) 내 압력을 500pa ~ 3000pa를 유지하는 전제하에 분리, 박막 긁기, 상승, 절단을 포함한 복합 거품 제거 방법으로 연속처리를 진행한다. 4. 샘플채집구(18)에서 샘플링하여 거품 제거 정도 검측을 실시하여, 합격 시 거품 제거 과정을 종료하고, 불합격 시 합격될 때까지 단계 3을 반복하여 거품 제거 과정을 완성한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008786
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B01D-019/02,B01D-019/00,B01F-007/22,D01D-001/06,D01D-001/10,D01F-009/00
주제어 (키워드)