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프로파일 인식 소스-마스크 최적화

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기관명	NDSL
출원인	에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
출원번호	10-2016-7011217
출원일자	2016-04-27
공개번호	20160603
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	조명 소스 및 투영 광학 기기를 갖는 리소그래피 투영 장치를 이용하여 설계 레이아웃의 일부를 기판 상으로 이미징하기 위한 리소그래피 공정을 개선하기 위하여 컴퓨터로 구현되는 방법은, 상기 리소그래피 공정의 특성인 복수의 설계 변수의 다중-변수 비용 함수를 계산하는 단계로서, 상기 설계 변수의 적어도 일부는 상기 조명 소스 및 상기 설계 레이아웃의 특성이고, 상기 다중-변수 비용 함수는 상기 기판 상의 3차원 레지스트 프로파일의 함수이거나 상기 투영 광학 기기로부터 투영된 3차원 방사선 필드, 또는 이들 양자 모두인, 계산하는 단계; 및 미리 정의된 종료 조건이 만족될 때까지 상기 설계 변수를 조절함으로써 상기 리소그래피 공정의 특성을 재구성하는 단계를 포함한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167011217
첨부파일

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