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특허/실용신안

반도체 프로세싱을 위한 평면 가열기 구역을 구비한 가열 플레이트

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 램 리써치 코포레이션
출원번호 10-2016-7020482
출원일자 2016-07-26
공개번호 20160811
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 반도체 플라즈마 프로세싱 장치에서 기판 지지부 어셈블리를 위한 가열 플레이트는 크기를 변경할 수 있는 다중화 레이아웃으로 배열된 다수의 독립적으로 제어가능한 평면 가열기 구역들, 및 독립적으로 제어하기 위한 전자장치들, 및 평면 가열기 구역들에 대한 전력을 포함한다. 각각의 평면 가열기 구역은 절연체-도체 복합물로 이루어진 하나 이상의 가열기 소자들을 포함한다. 가열 플레이트가 포함되는 기판 지지부 어셈블리는 정전 클램핑 전극 및 온도가 제어된 베이스 플레이트를 포함한다. 가열 플레이트를 제조하는 방법들은 평면 가열기 구역들, 전력 공급 라인들, 전력 리턴 라인들, 및 비아들을 갖는 세라믹 시트들을 함께 본딩하는 단계를 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167020482
첨부파일

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