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특허/실용신안

도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 가지는 수지 구조체

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 주식회사 엘지화학
출원번호 10-2015-0130982
출원일자 2015-09-16
공개번호 20160404
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 각종 고분자 수지 제품 또는 수지층 상에 단순화된 공정으로 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있으며, 우수한 방열 특성을 나타내는 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 가지는 수지 구조체에 관한 것이다. 상기 도전성 패턴 형성용 조성물은 고분자 수지; 특정 화학식을 가지는 비도전성 금속 화합물; 및 방열 소재를 포함하며, 전자기파 조사에 의해 상기 비도전성 금속 화합물로부터 금속핵이 형성되는 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150130982
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01B-001/22,H01B-013/00,H01B-005/14
주제어 (키워드)