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특허/실용신안

검사 방법, 리소그래피 장치, 마스크 및 기판

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
출원번호 10-2016-7018429
출원일자 2016-07-08
공개번호 20160818
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 리소그래피 공정과 관련한 초점 정보를 얻는 방법 및 장치가 개시된다. 본 방법은, 타겟을 조명하는 단계, 및 타겟에 의해 산란된 방사선을 검출하여, 그 타겟에 대해, 타겟의 전체적인 비대칭을 나타내는 비대칭 측정값을 얻는 단계를 포함하고, 타겟은 서로 번갈아 있는 제 1 구조체와 제 2 구조체를 포함하며, 제 2 구조체의 형태는 초점 의존적이고, 제 1 구조체의 형태는 제 2 구조체의 초점 의존성과 동일한 초점 의존성을 갖지 않으며, 비대칭 측정값은 타겟을 형성하는 빔의 초점을 나타낸다.이러한 타겟을 형성하기 위한 관련된 마스크 및 이러한 타겟을 갖는 기판이 또한 개시된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167018429
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-007/20,G03F-001/44
주제어 (키워드)