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샤워헤드

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기관명	NDSL
출원인	군산대학교산학협력단
출원번호	10-2013-0115574
출원일자	2013-09-27
공개번호	20150409
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 반도체 소자 제조공정에서 화학기상증착 장비의 챔버 내부로 기체상태의 원료를 분사하는 샤워헤드 및 이를 구비한 박막장치에 관한 것으로, 상기 샤워헤드는 플라즈마 생성부를 통해 공정가스를 플라즈마 처리하여 유도되는 라디칼과, 유기금속 전구체가 별개의 통로를 통해 분사공간으로 분사되기 때문에 라디칼과의 접촉으로 인한 유기금속 전구체의 손상을 방지할 수 있으며, 분사노즐의 장방비를 조절하여 플라즈마의 소실을 최소화시켜 분사공간으로 전달시킬 수 있어 균일하고, 빠르고 효율적으로 금속 박막을 증착할 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130115574
첨부파일

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