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마이크로전자 디바이스들 및 그 전구체를 제조하기 위하여 산성 케미스트리들을 사용할 때의 향상된 챔버 세정

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기관명	NDSL
출원인	티이엘 에프에스아이, 인코포레이티드
출원번호	10-2016-7015444
출원일자	2016-06-10
공개번호	20160721
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 산성 케미스트리들로 처리되는 웨이퍼 표면들 상의 오염을 감소시키는 처리 정책들을 제공한다.정책들은 민감성 마이크로전자 피쳐들 또는 그 전구체들을 포함하는 것들을 포함하는, 광범위한 웨이퍼들과 함께 사용하기에 적합하다.이들 정책들은 오염의 원인일 수 있는, 다른 프로세싱 챔버 표면들로부터 뿐 아니라 워크피스(들)의 전면으로부터의 잔여 산 및 산성 부산물들을 빠르고 효과적으로 제거하는 중성화 및 린싱 정책들의 결합을 수반한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167015444
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