검사 방법, 리소그래피 장치, 마스크 및 기판
기관명 | NDSL |
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출원인 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
출원번호 | 10-2016-7018429 |
출원일자 | 2016-07-08 |
공개번호 | 20160818 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 리소그래피 공정과 관련한 초점 정보를 얻는 방법 및 장치가 개시된다. 본 방법은, 타겟을 조명하는 단계, 및 타겟에 의해 산란된 방사선을 검출하여, 그 타겟에 대해, 타겟의 전체적인 비대칭을 나타내는 비대칭 측정값을 얻는 단계를 포함하고, 타겟은 서로 번갈아 있는 제 1 구조체와 제 2 구조체를 포함하며, 제 2 구조체의 형태는 초점 의존적이고, 제 1 구조체의 형태는 제 2 구조체의 초점 의존성과 동일한 초점 의존성을 갖지 않으며, 비대칭 측정값은 타겟을 형성하는 빔의 초점을 나타낸다.이러한 타겟을 형성하기 위한 관련된 마스크 및 이러한 타겟을 갖는 기판이 또한 개시된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167018429 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | G03F-007/20,G03F-001/44 |
주제어 (키워드) |