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옥시나이트라이드 스퍼터링 타깃 및 박막 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	아쉬.에.에프.
출원번호	10-2016-7018453
출원일자	2016-07-08
공개번호	20160728
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 리튬 옥시나이트라이드 이온 스퍼터링 타깃, 및 상기 타깃으로부터 리튬 옥시나이트라이드 박막의 형태로 전해질을 만드는 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 전해질이 제공된 기판을 포함하는 전기화학장치에 관한 것이다. 본 발명은 - 30 ~ 40 원자 퍼센트의 금속, - 2 ~ 10 원자 퍼센트의 질소, - 35 ~ 50 원자 퍼센트의 산소, - 인(P), 붕소(B), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 갈륨(Ga), 황(S) 및 알루미늄(Al)을 포함하는 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 원소로 구성되고 100 원자 퍼센트까지인 잔부를 포함하는 캐소드 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 특징으로 한다. 아울러, 본 발명은 상기 타깃으로부터 박막을 제조하는 방법 및 상기 박막을 포함하는 전기화학 장치이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167018453
첨부파일

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