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특허/실용신안

저온에서 광택이 나는 적층 구조의 생산방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 헤레우스 도이칠란트 게엠베하 운트 코. 카게
출원번호 10-2016-7010744
출원일자 2016-04-22
공개번호 20160603
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 E1. 하기 성분을 포함하는 조성물 (6)을 제공하는 단계: i. 0.1 내지 50중량% 범위의 양으로 금 (Au) 입자; ii. 밸러스로서 100중량%까지의 극성의, 양성자성 유기 용매; iii. 5중량% 미만의 물, 여기서 상기 조성물 (6)의 총 질량에 기초한 각각의 경우에서 중량%는, 100중량%까지 첨가되고; E2. 상기 조성물 (6)을 기판 (4)에 적용시켜 전구체 (12)를 제공하는 적용 단계; E3. 상기 전구체 (12)를 25 내지 300℃의 온도 범위로 가열하여 층 구조 (2)를 제공하는 가열 단계를 포함하는 층 구조 (2)의 생산방법.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167010744
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B22F-007/04,B22F-001/00
주제어 (키워드)