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특허/실용신안

자가 형태 복원형 마스크팩용 하이드로겔 조성물 및 이의 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한불화장품주식회사
출원번호 10-2014-0194596
출원일자 2014-12-31
공개번호 20150604
공개일자 2015-06-03
등록번호 10-1525403-0000
등록일자 2015-05-28
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 자가 형태 복원형 마스크팩용 하이드로겔 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 일반적인 하이드로겔과는 달리 회합성 고분자인 피이지-240/에이치디아이코폴리머 비스-데실테트라데세스-20 에테르를 함유하여 자가 형태 복원 기능을 갖는 하이드로겔 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 조성물 총 중량을 기준으로, 회합성 고분자인 피이지-240/에이치디아이코폴리머 비스-데실테트라데세스-20에테르0.1 내지 2.0중량%, 천연 고분자 겔화제 0.4 내지 5.0중량%, 전해질 0.1 내지 1.0중량%, 피부 유효성분 1.0 내지 60.0중량%, 가소제로서 다가알코올 10.0 내지30.0중량%, 보존제, pH조절제 및 그 외 물을 포함한 용매를 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 하이드로겔 조성물은 마스크 또는 패치 형태로 미리 제조되는 하이드로겔로서 피이지-240/에이치디에아이코폴리머 비스-데실테트라데세스-20 에테르의 자가 형태 복원 기능에 의해 제조, 성형 또는 사용 시 변형된 형태가 스스로 회복되며, 또한 향상된 탄성으로 인해 고분자 겔화제의 추가 없이도 겔의 파손과 이수 현상을 억제하여 마스크 형태가 장시간 유지되는 장점을 가지게 된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140194596
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE A61K-008/72,A61K-008/02,A61K-008/73,A61Q-019/00
주제어 (키워드)