반도체 장치
기관명 | NDSL |
---|---|
출원인 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
출원번호 | 10-2016-0076439 |
출원일자 | 2016-06-20 |
공개번호 | 20160707 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 전기 특성이 우수하고, 신뢰성이 높은 박막 트랜지스터를 갖는 반도체 장치를 적은 공정으로 제작하는 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. In, Ga, 및 Zn을 포함하는 산화물 반도체막 위에 채널 보호층을 형성한 후, n형의 도전형을 갖는 막과, 도전막을 성막하고, 도전막 위에 레지스트 마스크를 형성한다.이 레지스트 마스크와 함께, 채널 보호층 및 게이트 절연막을 에칭 스토퍼로서 이용하고, 도전막과, n형의 도전형을 갖는 막과, In, Ga, 및 Zn을 포함하는 산화물 반도체막을 에칭하여, 소스 전극층 및 드레인 전극층과, 버퍼층과, 반도체층을 형성한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160076439 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
---|---|
ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-029/786,H01L-021/02,H01L-027/12,H01L-029/26,H01L-029/45,H01L-029/66 |
주제어 (키워드) |