기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

반응장치 및 그 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 천 포 잉
출원번호 10-2014-0050830
출원일자 2014-04-28
공개번호 20151112
공개일자 2016-01-26
등록번호 10-1588116-0000
등록일자 2016-01-18
권리구분 KPTN
초록 일종의 반응장치 및 그 방법으로, 밀폐된 본체유닛 내에 일정량의 초임계유체를 채워, 본체유닛 내에 전극유닛을 설치하고, 전극유닛은 경화대기재료 또는 처리대기재료를 적재하는 양전극과 음전극을 포함하여, 전원공급유닛의 양극, 음극에 각각 전기적으로 연결되어 전기가 통하게 하여, 초임계유체가 처리대기재료의 표면의 불순물을 용해하고, 양전극과 음전극을 배합하여 전기를 통하게 한 후, 양전극은 희생양극으로서 경화대기재료 혹은 처리대기재료에 대하여 불순물 원자 박리작용을하고, 양전극 및 음전극은 경화대기재료가 저온하에서 경화 및 반응시간을 단축하고 균일성이 증가하도록 하고, 또는 처리대기재료가 저온하에서 최적화될 수 있고, 균일성을 결속시키며, 정제화, 화학반응 또는 화학침적반응이 저온하에서 가능하도록 한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140050830
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B01J-003/00,B01J-019/08,B01J-019/24
주제어 (키워드)