에칭 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 |
출원번호 | 10-2016-0004684 |
출원일자 | 2016-01-14 |
공개번호 | 20160728 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | (과제) 개구의 폐색을 방지하면서, 질화실리콘으로 구성된 제 2 영역에 대하여, 산화실리콘으로 구성된 제 1 영역을 에칭한다. (해결 수단) 일 실시 형태의 방법은, 피처리체를 수용한 처리 용기 내에 있어서 플루오로카본 가스를 포함하는 처리 가스의 플라즈마를 생성하는 제 1 공정으로서, 피처리체상에 플루오로카본을 포함하는 퇴적물을 형성하는, 상기 제 1 공정과, 피처리체를 수용한 처리 용기 내에 있어서, 산소 함유 가스 및 불활성 가스를 포함하는 처리 가스의 플라즈마를 생성하는 제 2 공정과, 퇴적물에 포함되는 플루오로카본의 라디칼에 의해 제 1 영역을 에칭하는 제 3 공정을 포함한다.이 방법에서는, 제 1 공정, 제 2 공정, 및 제 3 공정을 포함하는 시퀀스가 반복하여 실행된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160004684 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/3065,H01L-021/3105,H01L-021/311 |
주제어 (키워드) |