그래핀 나노리본들을 위한 정제 프로세스
기관명 | NDSL |
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출원인 | 바스프 에스이 |
출원번호 | 10-2016-7008556 |
출원일자 | 2016-03-31 |
공개번호 | 20160510 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 그래핀 나노리본들을 정제하기 위한 프로세스에 관한 것으로, 상기 프로세스는, 그래핀 나노리본들 (GNR1) 및 하나 이상의 오염 물질들을 포함하는 조성물을 분산제를 포함하는 액체 매질과 접촉시키고 그래핀 나노리본들 (GNR1) 의 액체 분산물을 획득하기 위해서 액체 매질에 그래핀 나노리본들 (GNR1) 을 분산시키는 단계, 및 하나 이상의 오염 물질들을 적어도 부분적으로 제거하기 위해서 그래핀 나노리본들 (GNR1) 의 액체 분산물에 분리 처리를 부여하여서, 정제된 그래핀 나노리본들 (GNR1) 의 액체 분산물을 획득하는 단계를 포함한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008556 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | C01B-031/04,B01J-019/10,H01L-029/06,H01L-029/16,H01L-029/66,H01L-029/778 |
주제어 (키워드) |