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감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	후지필름 가부시키가이샤
출원번호	10-2019-7011481
출원일자	2019-04-22
공개번호	20190523
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	(A) 하기 일반식 (1)로 나타나는 반복 단위 (a)를 포함하는 수지, (B) 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 산을 발생하는 화합물, 및 (C) 유기 용제를 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물이 제공된다. 상기 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은, 고형분 농도가 4질량% 이하이다.(식 중, R 11 및 R 12 는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 또는 1가의 유기기를 나타낸다. R 13 은, 수소 원자, 할로젠 원자, 또는 1가의 유기기를 나타내거나, 혹은 단결합 또는 알킬렌기이고, 또한 식 중의 L 또는 Ar에 결합하여 환을 형성하고 있다. L은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. Ar은, 방향환기를 나타낸다. n은, 2 이상의 정수를 나타낸다.) [화학식 1]
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020197011481
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