| 초록 |
본 발명은, 193 nm 의 적용 파장을 갖는 ArF 엑시머 레이저 리소그래피 프로세스에서의 사용을 위한 합성 석영 유리로 만들어지며, 실질적으로 산소 결함 사이트가 없는 유리 구조, 0.1 x 10 16 molecule/cm 3 내지 1.0 x 10 18 molecule/cm 3 범위의 수소 함량, 2 x 10 17 molecule/cm 3 미만의 SiH 기의 함량, 및 0.1 과 100 wt. ppm 사이의 범위의 히드록실 기의 함량을 포함하고, 상기 유리 구조가 1070℃ 미만의 가상 온도를 갖는, 광학 컴포넌트에 관한 것이다.본 발명의 목적은 633 nm 의 측정 파장을 이용하여 압축 거동의 측정에 기초한 적용 파장으로 UV 레이저 방사선을 이용할 때 압축 거동의 신뢰적인 예측을 허용하는 것이다.이것은, 컴포넌트가, 펄스 폭이 125 ns 이고 2000 Hz 의 펄스 반복 주파수에서 각각의 에너지 밀도가 500 μJ/cm 2 인 5x10 9 개 펄스들을 이용하여 193 nm 의 파장을 갖는 방사선에 의한 조사에 응답하여 레이저 유도 굴절률 변화를 겪고, 상기 변화는, 193 nm 의 적용 파장을 이용한 측정시 제 1 측정 값 M 193nm 의 합계를 내고, 633 nm 의 측정 파장을 이용하여 측정시 제 2 측정 값 M 633nm 의 합계를 내고, 여기서 M 193nm /M 633nm |
