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특허/실용신안

멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
출원번호 10-2014-0172230
출원일자 2014-12-03
공개번호 20150618
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 일태양의 멀티 하전 입자빔 묘화 장치는, 하전 입자빔에 의한 멀티빔의 샷마다, 각 빔의 1 샷분의 조사를 조사 시간이 상이한 복수 회의 분할 샷으로 분할하도록 복수 회의 분할 샷의 데이터를 생성하는 분할 샷 데이터 생성부와, 복수 회의 분할 샷의 데이터에 따라, 멀티빔의 각 빔을 개별로 블랭킹 제어하는 개별 블랭킹 기구와, 분할 샷마다, 멀티빔의 ON 빔 수에 따라 멀티빔 전체의 상의 신축률을 보정하는 신축률 보정치를 취득하는 신축률 보정치 취득부와, 분할 샷마다, 신축률 보정치를 이용하여 멀티빔 전체의 상의 신축률을 보정하는 렌즈를 구비한 것을 특징으로 한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140172230
첨부파일

추가정보

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