리튬 또는 나트륨 비스(플루오로술포닐)이미드의 제조 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 아르끄마 프랑스 |
출원번호 | 10-2015-7034262 |
출원일자 | 2015-12-01 |
공개번호 | 20151223 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 화학식 (I) (OH)-SO 2 -NH 2 의 아미도술퍼산과 화학식 (II) (OH)-SO 2 -X (식 중, X 는 할로겐 원자를 나타냄) 의 할로겐화 술폰산의 반응을 포함하고, 양이온 C + 와 형성된 염인 염기와의 반응을 포함하는, 화학식 (III) (SO3 - )N - -(SO3 - ),3C + (식 중, C + 는 1가 양이온을 나타냄) 의 비스(술포네이토)이미드 염의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 화학식 (V) F-(SO 2 )-NH-(SO 2 )-F 의 비스(플루오로술포닐)이미드 산의 제조 방법, 및 화학식 (VII) F-(SO 2 )-N - -(SO 2 )-F, Li + 의 리튬 비스(플루오로술포닐)이미드 염의 제조 방법에 관한 것이다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157034262 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01M-010/0568,C01B-021/086,C01B-021/093,H01M-010/0525,H01M-010/054 |
주제어 (키워드) |