이온 주입 균일성을 제어하기 위한 장치 및 기술들
기관명 | NDSL |
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출원인 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. |
출원번호 | 10-2015-7034316 |
출원일자 | 2015-12-01 |
공개번호 | 20160114 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 이온 주입기내 이온 빔을 제어하는 시스템은 제 1 주파수에서의 이온빔의 복수개의 빔 전류 측정들을 감지하는 검출기 시스템, 복수개의 빔 전류 측정들에 기초하여 이온 빔의 변화를 결정하는 분석 컴포넌트를 포함하고, 변화는 제 1 주파수와 다른 제 2 주파수에서의 이온 빔의 빔 전류 변화에 해당한다. 시스템은 또한 변화를 줄이기 위해서 분석 컴포넌트의 출력에 응답하여 이온 빔을 조정하는 조정 컴포넌트를 포함하되, 분석 컴포넌트 및 조정 컴포넌트는 이온 빔이 이온 주입기내에서 생성되는 동안 이온 빔의 변화를 임계값 아래로 동적으로 줄이도록 구성된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157034316 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01J-037/317,C23C-014/48,C23C-014/54,G21K-005/00,H01J-037/304 |
주제어 (키워드) |