개시제를 사용하는 화학기상증착(iCVD) 공정을 이용한 액체 분리막의 제조방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 한국과학기술원 |
출원번호 | 10-2015-0018184 |
출원일자 | 2015-02-05 |
공개번호 | 20160818 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 개시제를 사용하는 화학기상증착(iCVD) 공정에서 단량체의 도입 유량을 조절하여 공중합체가 증착된 표면체의 표면 에너지를 조절하고 이로부터 물-기름의 분리와 같은 다양한 용액 혼합물의 선택적인 분리에 사용할 수 있는 개시제를 사용하는 화학기상증착 반응(iCVD)을 이용한 액체 분리막의 제조방법에 관한 것이다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150018184 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | B01D-067/00,B01D-069/00 |
주제어 (키워드) |