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특허/실용신안

개시제를 사용하는 화학기상증착(iCVD) 공정을 이용한 액체 분리막의 제조방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국과학기술원
출원번호 10-2015-0018184
출원일자 2015-02-05
공개번호 20160818
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 개시제를 사용하는 화학기상증착(iCVD) 공정에서 단량체의 도입 유량을 조절하여 공중합체가 증착된 표면체의 표면 에너지를 조절하고 이로부터 물-기름의 분리와 같은 다양한 용액 혼합물의 선택적인 분리에 사용할 수 있는 개시제를 사용하는 화학기상증착 반응(iCVD)을 이용한 액체 분리막의 제조방법에 관한 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150018184
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B01D-067/00,B01D-069/00
주제어 (키워드)