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특허/실용신안
기판 처리 장치
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 주성엔지니어링(주) |
| 출원번호 | 10-2020-0017376 |
| 출원일자 | 2020-02-13 |
| 공개번호 | 20200227 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 본 발명은 공정 챔버, 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드, 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지 수단, 상기 기판 지지 수단에 마주보는 상기 챔버 리드의 하면에 결합되어 외부로부터 개별적으로 공급되는 제 1 가스와 제 2 가스를 상기 기판 상에 분사하는 가스 분사 수단을 포함하여 구성되는 기판 처리 장치에 관한 것이다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020200017376 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | |
| 주제어 (키워드) |