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특허/실용신안

열이미징매체용 경화성 접착층

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 프라이머리 피디씨, 인코포레이티드
출원번호 10-1992-0701721
출원일자 1992-07-21
공개번호 20080509
공개일자 1998-04-03
등록번호 10-0130478-0000
등록일자 1997-11-18
권리구분 KPTN
초록 [구성]이미지 생성용 강한 이미지 형성 조사에 반응하여 작동 가능한적층 열 이미징 매체에 있어서, 상기 적층 열 이미징 매체는순서적으로 상기 이미지 형성 조사에 투명하고 상기 적층 열이미징 매체가 짧고 강한 조사하에 있을 때 열활성인 고분자물질 표면 영역 혹은 층을 적어도 구비하는 제1시이트와, 상기고분자 열활성층에 대한 접착성을 초과하는 응집성을 갖는다공성 혹은 미립자성 이미지 형성 물질층과, 상기 다공성 혹은미립자성 이미지 형성 물질층을 덮고 접착층에 의해 상기 이미지형성물질에 직접적으로 혹은 간접적으로 접착적층된 제2시이트로서, 상기 강한 조사에 노출 후 상기 제1및 제2시이트의분리시에, 상기 이미지 형성물질의 비노출 부분을 그와함께제거하기에 적합한 제2시이트를 구비하고, 상기 접착층은 고분지경화성 접착증이고, 상기 경화성 접착층은 비경화 상태에서물리적 스트레스가 상기 적층 열 이미징 매체로 인가될 때 상기적층 열 이미징 매체가 탈층하는 경향을 줄일 수 있으며 상기이미지에 대한 유지 기반을 제공하기에 충분한 정도의 층으로경화될 수 있는 것임을 특징으로 하는 적층 열 이미징 매체.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1019920701721
첨부파일

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