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특허 실용신안

반사형마스크 및 마스크 제조방법과 그것을 사용한 패턴 형성 방법

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기관명	NDSL
출원인	가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
출원번호	10-1991-0015547
출원일자	1991-09-06
공개번호	20080509
공개일자	1999-04-01
등록번호	10-0184278-0000
등록일자	1998-12-18
권리구분	KPTN
초록	패턴을 광학적으로 형성하기 위해 사용하는 반사형 마스크로서파장이 인X선과 자외선중 적어도 하나를 반사하는 여러개의 광학 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 단차를 가지며, 상기 단차의 반사면에 의해 각각 반사된 광선 사이의 위상 관계가 변화되는 반사형 마스크.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1019910015547
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