| 초록 |
최근 4차산업혁명으로 인하여 반도체의 생산과 소비가 급증하고 있으며, 반도체 제조공정 중 실리콘 표면을 식각 처리하는 공정과 Photo 공정에서 photo resist의 현상액, 세정수 등으로 사용되는 물질인 TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)의 사용량도 함께 증가하고 있다. TMAH는 전자산업(TFT-LCD), 반도체산업에 널리 사용되는 강알칼리성 유기 아민계 용액이며 무색, 투명의 강염기성 물질로 수용성, 가연성을 나타내며 독성이 매우 강한 물질로 알려져 있다. 전자산업, 반도체산업 폐수처리 시 TMAH를 제거하는 것은 수질환경기준의 준수 측면에서 중요한 이슈가 되고 있다. TMAH는 구조가 매우 안정적이며 친수성을 띠고 있어 응집 및 흡착으로 제거가 어렵고, 미생물에 대한 독성이 강한 난분해성 물질이다. 일반적으로 TMAH 농도가 증가할 경우 생물학적 처리 효율을 저하시켜 처리수의 수질을 악화하고(처리수 유기물 농도 증가, 질산화 효율 저하로 T-N 증강) 생태독성을 발현시키는 것으로 알려져 있다. TMAH를 함유한 폐수는 이온교환, Membrane을 이용한 분리/농축, 호기성 처리, 혐기성 처리, 촉매 산화 등의 방법으로 처리 가능하다고 보고되고 있다. 일부 연구에 따르면 TMAH가 특정 미생물(TMAH 분해균)에 의해 호기성 조건 및 혐기성 조건하에서 분해될 수 있음을 보여주었다.[1] 본 보고서는 전자산업, 반도체산업에서 발생되는 TMAH 함유 폐수의 처리 동향 및 효율을 검토하고 효율적인 처리 방법을 소개하는 데 그 목적이 있다. 이런 목적에 최적화된 생물학적 처리, 특히 TMAH 분해균을 사용한 호기성 처리에 초점을 맞추었다. |
